[发明专利]基板处理装置无效
| 申请号： | 02121837.4 | 申请日： | 2002-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN1391139A | 公开（公告）日： | 2003-01-15 |
| 发明（设计）人： | 菅长大辅;井上浩一;星辰也;近藤友喜 | 申请（专利权）人： | 住友精密工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/26 | 分类号： | G03F7/26;H01L21/31;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基板处理装置，在使用因蚀刻液和剥离液等药液而受浸蚀的基板的情况下，防止在该基板的背面因局部浸蚀而发生污点。在药液处理部的入口部分设置浸泡槽(37)。浸泡槽(37)被配置于基板(100)的传送线的下方，使药液溢出而接触基板(100)的整个背面。通过与该药液的接触，一旦基板(100)的背面均匀地浸润，则只要其背面不干燥，即使药液通过药液的回入和与传送滚轮的接触局部附着于基板(100)的背面，也不发生污点。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理装置，在将基板大致沿水平方向传送并通过多个处理部，在各处理部将处理液供给到基板的表面的传送式的基板处理装置中，其特征在于，在多个处理部中的至少一个处理部的入口部分，设置配置于基板的传送线下方、使处理液溢出并接触基板背面整个宽度的浸泡槽。
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