[发明专利]使用铬膜辅助图形的无铬膜相转移光罩

摘要

一种用于在集成电路中用于光学微影制程的相转移光罩，包含：一第一透明平板；一第一不透明膜位于第一透明平板上，第一不透明膜具有一第一图案并形成一主要特征图案，第一图案将影像映射至一光阻层上且光阻层涂布在一晶片上；至少一个相转移区域，它位于第一透明平板上；至少两个第二透明平板邻近于第一透明平板；及至少两个不透明膜位于至少两个第二透明平板上，至少两个不透明膜具有至少两个特征图案，它们位于第一不透明膜的第一图案的边缘且与第一不透明膜的第一图案分开，及至少两个特征图案映射至具有相转移区域及第一图案的芯片上。本发明的相转移光罩不需使用到小块的无铬膜图案，并且使缺陷发生的机率会降低。

主权项

1.一种用于在集成电路中用于光学微影制程的相转移光罩，其特征在于，该相转移光罩包含：一第一透明平板；一第一不透明膜位于该第一透明平板上，其中该第一不透明膜具有一第一图案并形成一主要特征图案，该第一图案将影像映射至一光阻层上且该光阻层涂布在一晶片上；至少一个相转移区域，该相转移区域位于该第一透明平板上；至少两个第二透明平板邻近于该第一透明平板；及至少两个不透明膜位于至少两个第二透明平板上，该至少两个不透明膜具有至少两个特征图案，其中该至少两个特征图案位于该第一不透明膜的该第一图案的边缘且与该第一不透明膜的该第一图案分开，及该至少两个特征图案映射至具有该相转移区域及该第一图案的该芯片上。