[发明专利]光掩模的制造方法

摘要

本发明提供一种光掩模制造方法。根据该方法，可获得重复图形区域中形状等均匀性高、斑纹少的灰调掩模。而且可减少描绘数据的容量。该方法包含用沿描绘装置的头的扫描方向(Y方向)的规定扫描单位和沿与扫描方向垂直的方向(X方向)的规定进给单位进行描绘的描绘工序，其特征在于，所述光掩模的图形包含重复图形，所述描绘工序包含下述工序对包含相同重复图形的图形单位(例如像素单位20)，用分别相同的进给条件描绘各图形单位(例如把格栅的头17a与各描绘单位20的左端对齐以便总是从各描绘单位20的左端开始描绘)。

主权项

1.一种光掩模制造方法，包含用沿描绘装置头的扫描方向Y方向的规定扫描单位、和沿与扫描方向垂直的方向X方向的规定进给单位进行描绘的描绘工序，其特征在于，所述光掩模的图形包含重复图形，所述描绘工序包含下述工序：对包含相同重复图形的图形单位，用分别相同的进给条件描绘各图形单位。