[发明专利]焦点监测用光掩模、监测方法、监测装置及其制造方法

摘要

本发明的焦点监测用光掩模5包括透过曝光光的基板5a和聚焦监测用单元掩模结构Q。焦点监测用单元掩模结构Q具有在基板5a的表面上形成的2个位置测量用图形5b1、5b2，以及在基板5a的背面形成的、而且具有使对2个位置测量用图形5b1、5b2的曝光光的入射方向产生实质性差异用的背面图形5d的遮光膜5c。当假定背面图形5d的尺寸为L，曝光光的波长为λ时，L/λ为10以上。

主权项

1.一种焦点监测用光掩模，为了在图形曝光时使光学图像的焦面与被曝光面一致，用于测量被曝光面的光学系统的位置的焦点监测，其特征在于：配备有透过曝光光的基板和焦点监测用单元掩模结构，上述焦点监测用单元掩模结构具有：测量在上述基板表面上形成的相互的位置关系用的2个位置测量用图形；以及在上述基板的背面形成的、而且具有使对上述2个位置测量用图形的曝光光的入射方向产生实质性差异用的背面图形的遮光膜，而且当假定上述背面图形的尺寸为L，曝光光的波长为λ时，L/λ为10以上。