[发明专利]碳纳米管“或否”逻辑器件无效
申请号: | 02123861.8 | 申请日: | 2002-07-05 |
公开(公告)号: | CN1466215A | 公开(公告)日: | 2004-01-07 |
发明(设计)人: | 赵继刚;王太宏 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
主分类号: | H01L27/04 | 分类号: | H01L27/04;H03K19/20;H03K19/02 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王凤华 |
地址: | 100080北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种碳纳米管“或否”逻辑器件,它包括以Si作为衬底,该衬底上设有SiO2氧化层,在Si衬底的SiO2绝缘层上设置碳纳米管、栅极和电极;所述的栅极包括两个独立的栅极,在位于Si衬底上SiO2绝缘层中彼此相邻的两条沟槽之中沉积的Al,并经表面氧化形成的Al2O3绝缘层构成,栅极的绝缘层厚度小于3纳米;所述的电极包括两个独立的电极,位于Si衬底上SiO2绝缘层和碳纳米管之上,或碳纳米管之下;一根碳纳米管平直放置在SiO2绝缘层的表面上,与栅极的Al2O3绝缘层表面以及电极的贵金属层表面相接触。一个电极加恒定偏压,另一电极为输出端,利用两个栅极控制碳纳米管截止或导通,从而实现了逻辑“或否”功能。与其它碳纳米管“或否”逻辑器件相比,本发明结构简单,且易于制作。 | ||
搜索关键词: | 纳米 逻辑 器件 | ||
【主权项】:
1.一种碳纳米管结构的“或否”逻辑器件,包括以Si作为衬底,该衬底上设有SiO2氧化层,在Si衬底的SiO2绝缘层上设置碳纳米管、栅极和电极;其特征在于:所述的栅极包括两个独立的栅极,在位于Si衬底上SiO2绝缘层中彼此相邻的两条沟槽之中沉积的Al,并经表面氧化形成的Al2O3绝缘层构成,栅极的绝缘层厚度小于3纳米;所述的电极包括两个独立的电极,位于Si衬底上SiO2绝缘层和碳纳米管之上,或碳纳米管之下;一根碳纳米管平直放置在SiO2绝缘层的表面上,与栅极的Al2O3绝缘层表面以及电极的贵金属层表面相接触,一个电极与恒定源连接,另一电极为输出端;栅极作为输入端。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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