[发明专利]碳纳米管“或否”逻辑器件无效

专利信息
申请号: 02123861.8 申请日: 2002-07-05
公开(公告)号: CN1466215A 公开(公告)日: 2004-01-07
发明(设计)人: 赵继刚;王太宏 申请(专利权)人: 中国科学院物理研究所
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H03K19/20;H03K19/02
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 王凤华
地址: 100080北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种碳纳米管“或否”逻辑器件,它包括以Si作为衬底,该衬底上设有SiO2氧化层,在Si衬底的SiO2绝缘层上设置碳纳米管、栅极和电极;所述的栅极包括两个独立的栅极,在位于Si衬底上SiO2绝缘层中彼此相邻的两条沟槽之中沉积的Al,并经表面氧化形成的Al2O3绝缘层构成,栅极的绝缘层厚度小于3纳米;所述的电极包括两个独立的电极,位于Si衬底上SiO2绝缘层和碳纳米管之上,或碳纳米管之下;一根碳纳米管平直放置在SiO2绝缘层的表面上,与栅极的Al2O3绝缘层表面以及电极的贵金属层表面相接触。一个电极加恒定偏压,另一电极为输出端,利用两个栅极控制碳纳米管截止或导通,从而实现了逻辑“或否”功能。与其它碳纳米管“或否”逻辑器件相比,本发明结构简单,且易于制作。
搜索关键词: 纳米 逻辑 器件
【主权项】:
1.一种碳纳米管结构的“或否”逻辑器件,包括以Si作为衬底,该衬底上设有SiO2氧化层,在Si衬底的SiO2绝缘层上设置碳纳米管、栅极和电极;其特征在于:所述的栅极包括两个独立的栅极,在位于Si衬底上SiO2绝缘层中彼此相邻的两条沟槽之中沉积的Al,并经表面氧化形成的Al2O3绝缘层构成,栅极的绝缘层厚度小于3纳米;所述的电极包括两个独立的电极,位于Si衬底上SiO2绝缘层和碳纳米管之上,或碳纳米管之下;一根碳纳米管平直放置在SiO2绝缘层的表面上,与栅极的Al2O3绝缘层表面以及电极的贵金属层表面相接触,一个电极与恒定源连接,另一电极为输出端;栅极作为输入端。
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