[发明专利]利用碳纳米管制作的逻辑“非”门器件无效

专利信息
申请号: 02123863.4 申请日: 2002-07-05
公开(公告)号: CN1466217A 公开(公告)日: 2004-01-07
发明(设计)人: 赵继刚;王太宏 申请(专利权)人: 中国科学院物理研究所
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H03K19/20;H03K19/02
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 王凤华
地址: 100080北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种利用碳纳米管制作的“非”门逻辑器件,该逻辑器件包括一Si衬底,该衬底上有一SiO2绝缘层,在Si衬底上设置单壁碳纳米管、一个栅极和电极;其特征在于:所述的栅极位于Si衬底上SiO2绝缘层中的一条沟槽之中沉积的Al,并经表面氧化形成的Al2O3绝缘层组成;所述的电极包括两个平行于栅极设置在栅极两侧,该电极设置在单壁碳纳米管之下或位于单壁碳纳米管之上;一根单壁碳纳米管放置在SiO2绝缘层的表面上,与栅极的Al2O3绝缘层表面和电极的贵金属层表面相接触,第一电极联接恒压源,栅极为输入端。利用栅极控制碳纳米管截止或导通,从而实现了逻辑“非”功能。与其它碳纳米管逻辑器件相比,本发明逻辑“非”门器件结构简单,且易于制作和集成。
搜索关键词: 利用 纳米 制作 逻辑 器件
【主权项】:
1.一种利用碳纳米管制作的“非”门逻辑器件,包括一Si衬底,该衬底上有一SiO2绝缘层,在Si衬底上设置单壁碳纳米管、一个栅极和电极;其特征在于:所述的栅极位于Si衬底上SiO2绝缘层中的一条沟槽之中沉积的Al,并经表面氧化形成的Al2O3绝缘层组成;所述的电极包括两个平行于栅极设置在栅极两侧,该电极设置在单壁碳纳米管之下或位于单壁碳纳米管之上;一根单壁碳纳米管放置在SiO2绝缘层的表面上,与栅极的Al2O3绝缘层表面和电极的贵金属层表面相接触,第一电极联接恒压源,栅极为输入端。
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