[发明专利]利用碳纳米管制作的逻辑“非”门器件无效
申请号: | 02123863.4 | 申请日: | 2002-07-05 |
公开(公告)号: | CN1466217A | 公开(公告)日: | 2004-01-07 |
发明(设计)人: | 赵继刚;王太宏 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
主分类号: | H01L27/04 | 分类号: | H01L27/04;H03K19/20;H03K19/02 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王凤华 |
地址: | 100080北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种利用碳纳米管制作的“非”门逻辑器件,该逻辑器件包括一Si衬底,该衬底上有一SiO2绝缘层,在Si衬底上设置单壁碳纳米管、一个栅极和电极;其特征在于:所述的栅极位于Si衬底上SiO2绝缘层中的一条沟槽之中沉积的Al,并经表面氧化形成的Al2O3绝缘层组成;所述的电极包括两个平行于栅极设置在栅极两侧,该电极设置在单壁碳纳米管之下或位于单壁碳纳米管之上;一根单壁碳纳米管放置在SiO2绝缘层的表面上,与栅极的Al2O3绝缘层表面和电极的贵金属层表面相接触,第一电极联接恒压源,栅极为输入端。利用栅极控制碳纳米管截止或导通,从而实现了逻辑“非”功能。与其它碳纳米管逻辑器件相比,本发明逻辑“非”门器件结构简单,且易于制作和集成。 | ||
搜索关键词: | 利用 纳米 制作 逻辑 器件 | ||
【主权项】:
1.一种利用碳纳米管制作的“非”门逻辑器件,包括一Si衬底,该衬底上有一SiO2绝缘层,在Si衬底上设置单壁碳纳米管、一个栅极和电极;其特征在于:所述的栅极位于Si衬底上SiO2绝缘层中的一条沟槽之中沉积的Al,并经表面氧化形成的Al2O3绝缘层组成;所述的电极包括两个平行于栅极设置在栅极两侧,该电极设置在单壁碳纳米管之下或位于单壁碳纳米管之上;一根单壁碳纳米管放置在SiO2绝缘层的表面上,与栅极的Al2O3绝缘层表面和电极的贵金属层表面相接触,第一电极联接恒压源,栅极为输入端。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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