[发明专利]灰调掩模及其制造方法

摘要

本发明提供一种灰调掩模及其制造方法。目的是使利用具有灰调部的灰调掩模的图形转印工序实用化，其中该灰调部由具有使用灰调掩模的曝光机的分辨极限以下的微遮光图形构成。在该灰调掩模中，例如，沿着与灰调部3相接的遮光图形1的轮廓形状，在灰调部3一侧形成轮廓图形30。

主权项

1.一种灰调掩模，具有遮光部、透射部和灰调部，其中灰调部是排列具有使用掩模的曝光机分辨极限以下的图形尺寸的遮光图形的区域，并使透射过该区域的曝光光线的透射量减少，其特征在于，所述灰调掩模，至少具有遮光部及/或透射部与灰调部邻接的边界部分；所述遮光部及/或所述透射部的轮廓形状含有弯曲部分；在遮光部边界部分近旁的灰调部一侧，或者在包含透射部边界部分的区域或边界部分的近旁，具有沿着所述遮光部及/或所述透射部的轮廓形成为线状的轮廓图形。