[发明专利]利用等离子技术的高分子中和膜制造设备及其制造方法

摘要

本发明公开了一种利用等离子技术的高分子中和膜的制造设备，在工程容器内部上、下部放电电极的外侧，设置了上、下部对应电极，其上、下部对应电极连接在直流电源的正极。在一个优选方式中，以工程容器内部的铝板为中心，上、下部放电电极保持40毫米间隙。在另一个优选方式中，上、下部放电电极和上、下部对应电极之间间隙应维持到70至130毫米。本发明也公开了利用等离子技术的高分子中和膜的方法，工程容器内安置阳极铝板，铝板的上、下部安置了阴极上、下部放电电极和阳极上、下部对应电极，工程容器内部压力维持真空状态后注入碳氢化气体，阳极和阴极之间相加0.5至2A的直流电使碳氢化气体电离，在铝板的表面形成具有亲水性高分子中和膜。

主权项

1.一种利用等离子技术的高分子中和膜制造设备，包括工程容器(1)及其内部的上部放电电极(2)和下部放电电极(3)和直流电源(14)，其特征是：在所述上部放电电极(2)和下部放电电极(3)的外侧，分别设置了上部对应电极(9)和下部对应电极(10)，上部对应电极(9)和下部对应电极(10)连接在直流电源(14)的正极上。