[发明专利]定义低介电常数介电层的方法

摘要

一种定义低介电常数介电层的方法。直接暴露在高能量流下来定义低介电常数介电层，而不需要使用任何的光阻层，借以使低介电常数介电层曝光的部分固化，而变的不溶于显影溶液中，低介电常数介电层未曝光的部分则会溶解在显影溶液中，并将会在显影步骤中被移除，组件的效能与可靠度均可因此得到改善，且可以简化工艺步骤。

主权项

1.一种定义低介电常数介电层的方法，其特征是，该方法包括下列步骤：提供一基底；用旋涂的方式形成一低介电常数介电层于该基底上；提供具有一图案的一光罩；直接在该低介电常数介电层上使用一高能量流，以选择性的固化该低介电常数介电层而不需要使用一光阻层，其中该光罩是被使用来将该图案转换到该低介电常数介电层上的；通过使用一显影液来进行一显影步骤，其中该低介电常数介电层的一部分会被暴露在高能量流下并被固化，因此不溶于该显影液中，而该低介电常数介电层未曝光的部分则会溶解在该显影液中；以及在显影步骤以后，进行一道烘烤步骤以减少水气的吸收。