[发明专利]一种光学接近修正方法有效
| 申请号： | 02126996.3 | 申请日： | 2002-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN1472604A | 公开（公告）日： | 2004-02-04 |
| 发明（设计）人： | 黄俊仁;黄瑞祯;谢昌志 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20;G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李强 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种光学接近修正方法(optical proximitycorrection，OPC)；该方法是先提供一预定的电路图案，接着于一光罩上形成该电路图案，并于该电路图案以外的该光罩表面形成复数个虚设图案(nonprintable dummy pattern)；其中该复数个虚设图案是用来改善该光罩上的图案密度差异以修正光学接近效应，并不会随着微影制程而被转移至半导体芯片表面的光阻层中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 接近 修正 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学接近修正方法(optical proximity correction，OPC)，用来降低图案转移制程时的光学接近效应(optical proximity effect)，该方法包含有下列步骤：提供一光罩；提供一预定形成于该光罩上的原始光罩图案，且该原始光罩图案中包含有至少一电路布局图案以及至少一空白区域；于该空白区域中形成复数个虚设图案(dummy pattern)，以使该电路布局图案、该复数个虚设图案以及剩余的该空白区域构成一修正光罩图案；以及于该光罩表面形成该修正光罩图案；其中该电路布局图案的穿透光线(transmitted light)与该虚设图案的穿透光线之间具有180°的相位差(phase difference)。
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