[发明专利]调整聚焦位置的方法有效
| 申请号： | 02127492.4 | 申请日： | 2002-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN1472600A | 公开（公告）日： | 2004-02-04 |
| 发明（设计）人： | 吴元薰 | 申请（专利权）人： | 南亚科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/207 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 潘培坤;楼仙英 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种用于半导体元件的微影制造方法中曝光步骤的聚焦方法，包括：提供一测试光罩，具有一透明基板，所述透明基板表面具有一遮光层，用以露出一相角0度透光区与一相角90度透光区，其中上述相角0度透光区与上述相角90度透光区的尺寸相同；提供一光源，保持与上述测试光罩一距离，透过上述测试光罩在一基底表面曝光出对应上述相角0度透光区的第一影像与对应上述相角90度透光区的第二影像；量测上述第一影像与上述第二影像的尺寸；若上述第一影像与上述第二影像的尺寸不相等，则改变上述光源与上述测试光罩的间距，重复上述步骤，直到上述第一影像尺寸与上述第二影像尺寸相等为止。 | ||
| 搜索关键词： | 调整 聚焦 位置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种调整聚焦位置的方法，其特征在于，包括：a.提供一测试光罩，具有一透明基板，所述透明基板表面具有一遮光层，用以露出一相角0度透光区与一相角90度透光区，其中上述相角0度透光区与上述相角90度透光区的尺寸相同；b.提供一光源，保持与上述测试光罩一距离，透过上述测试光罩在一基底表面曝光出对应上述相角0度透光区的第一影像与对应上述相角90度透光区的第二影像；c.量测上述第一影像与上述第二影像的尺寸；d.若上述第一影像与上述第二影像的尺寸不相等，则改变上述光源与上述测试光罩的间距，重复上述步骤b与步骤c，直到上述第一影像尺寸与上述第二影像尺寸相等为止。
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