[发明专利]光学邻近效应修正的方法无效
| 申请号： | 02127825.3 | 申请日： | 2002-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN1403873A | 公开（公告）日： | 2003-03-19 |
| 发明（设计）人： | 谢昌志;林本立;陈明瑞 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/08 | 分类号： | G03F1/08;G03F9/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 任永武 |
| 地址： | 台湾省新竹科学*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明揭示一种光学邻近效应修正的方法。本方法至少包括提供透明平板，形成不透明薄膜在透明平板上，其中不透明薄膜的图案为多边形；最后，增加至少一凸角于多边形的线端，藉由光学邻近效应修正，其中线端不包括非90度角。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 邻近 效应 修正 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学邻近效应修正的方法，其特征在于，至少包括：提供一透明平板；提供一不透明薄膜，形成于该透明平板上，其中该不透明薄膜的图案为一多边形；以及提供至少一凸角，增加于该多边形的一线端，藉由光学邻近效应修正，其中该线端不包括非90度角的修正。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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