[发明专利]光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法有效
| 申请号： | 02128219.6 | 申请日： | 2002-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN1402090A | 公开（公告）日： | 2003-03-12 |
| 发明（设计）人： | 横井滋;胁屋和正 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 吴磊 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 含有(a)氢氟酸和不含金属离子的碱形成的盐；(b)水溶性有机溶剂；(c)含有巯基的防腐蚀剂；和(d)水的光刻胶用剥离液，以及使用该剥离液的光刻胶剥离方法。使用氟化铵为(a)成分时，可以再加入(e)氢氟酸和特定的季胺氢氧化物(如氢氧化四甲基铵、氢氧化四丙基铵等)和/或烷醇胺形成的盐。本发明的光刻胶用剥离液对Al、Cu二种金属布线的防腐蚀性优良，且对于光刻胶膜和灰化后的残渣物的剥离性优良，通常不发生防腐蚀剂的析出。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 剥离 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.光刻胶用剥离液，该剥离液含有：(a)氢氟酸和不合金属离子的碱形成的盐；(b)水溶性有机溶剂；(c)含有巯基的防腐蚀剂；和(d)水。
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