[发明专利]硅烷组合物、硅膜的形成方法和太阳能电池的制造方法无效

专利信息
申请号: 02129797.5 申请日: 2002-08-14
公开(公告)号: CN1407018A 公开(公告)日: 2003-04-02
发明(设计)人: 志保浩司;加藤仁史 申请(专利权)人: 捷时雅株式会社
主分类号: C08L83/16 分类号: C08L83/16;C09D183/16;H01L31/0216
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 魏金玺,庞立志
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种用于制造太阳能电池半导体薄膜的硅烷组合物,所述硅烷组合物含有用式SinRm所示的聚硅烷化合物(式SinRm中,n为3以上的整数,m为n~(2n+2)的整数,m个R互相独立地为氢原子、烷基、苯基或卤素原子,当m个R全部为氢原子、且m=2n时,n为7以上的整数)和(B)从环戊硅烷、环己硅烷和甲硅烷基环戊硅烷中选择的至少一种硅烷化合物。
搜索关键词: 硅烷 组合 形成 方法 太阳能电池 制造
【主权项】:
1.一种硅烷组合物,其特征在于,含有:(A)用式SinRm所示的聚硅烷化合物和(B)从环戊硅烷、环己硅烷和甲硅烷基环戊硅烷中选择的至少一种硅烷化合物,其中,式SinRm中,n为3以上的整数,m为n~(2n+2)的整数,m个R互相独立地为氢原子、烷基、苯基或卤素原子,当m个R全部为氢原子、且m=2n时,n为7以上的整数。
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