[发明专利]硅烷组合物、硅膜的形成方法和太阳能电池的制造方法无效
申请号: | 02129797.5 | 申请日: | 2002-08-14 |
公开(公告)号: | CN1407018A | 公开(公告)日: | 2003-04-02 |
发明(设计)人: | 志保浩司;加藤仁史 | 申请(专利权)人: | 捷时雅株式会社 |
主分类号: | C08L83/16 | 分类号: | C08L83/16;C09D183/16;H01L31/0216 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 魏金玺,庞立志 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种用于制造太阳能电池半导体薄膜的硅烷组合物,所述硅烷组合物含有用式SinRm所示的聚硅烷化合物(式SinRm中,n为3以上的整数,m为n~(2n+2)的整数,m个R互相独立地为氢原子、烷基、苯基或卤素原子,当m个R全部为氢原子、且m=2n时,n为7以上的整数)和(B)从环戊硅烷、环己硅烷和甲硅烷基环戊硅烷中选择的至少一种硅烷化合物。 | ||
搜索关键词: | 硅烷 组合 形成 方法 太阳能电池 制造 | ||
【主权项】:
1.一种硅烷组合物,其特征在于,含有:(A)用式SinRm所示的聚硅烷化合物和(B)从环戊硅烷、环己硅烷和甲硅烷基环戊硅烷中选择的至少一种硅烷化合物,其中,式SinRm中,n为3以上的整数,m为n~(2n+2)的整数,m个R互相独立地为氢原子、烷基、苯基或卤素原子,当m个R全部为氢原子、且m=2n时,n为7以上的整数。
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