[发明专利]一种高比表面积碳化硅及其制备方法无效
申请号: | 02130064.X | 申请日: | 2002-08-19 |
公开(公告)号: | CN1401565A | 公开(公告)日: | 2003-03-12 |
发明(设计)人: | 郭向云;靳国强;梁萍;王冬华 | 申请(专利权)人: | 中国科学院山西煤炭化学研究所 |
主分类号: | C01B31/36 | 分类号: | C01B31/36;B01J27/224 |
代理公司: | 山西五维专利事务所(有限公司) | 代理人: | 李毅 |
地址: | 030001*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | 一种高比表面积碳化硅的直径为10-20nm,比表面积为60-160m2/g,孔径分布范围为3-100nm。制备方法采用将酚醛树脂和乙醇或丙酮混合,再将铝溶胶、正硅酸乙酯和酚醛树脂溶于混合溶液中,同时加入草酸,搅拌水解;再加入六次甲基四氨进行凝胶,干燥,在通入氩气条件下,加热,反应降至室温;在空气中氧化,再酸洗。本发明具有操作简单,成本低廉,易于规模生产的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 表面积 碳化硅 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种高比表面积碳化硅,其特征在于直径为10-20nm,比表面积为60-160m2/g,孔径分布范围为3-100nm。
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