[发明专利]高硬度材料印章雕刻方法无效

专利信息
申请号: 02131033.5 申请日: 2002-09-26
公开(公告)号: CN1408556A 公开(公告)日: 2003-04-09
发明(设计)人: 刘直;刘晨靖 申请(专利权)人: 刘直
主分类号: B41K1/02 分类号: B41K1/02
代理公司: 天津市才智有限责任专利代理事务所 代理人: 胡凤梧
地址: 300190 天津市河*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明提供了一种高硬度材料印章雕刻方法,首先将印章打磨平整,将要雕刻的印文用电脑进行排版,把排好版的信息传送到激光雕刻机,再把软基片贴在打磨平整的印章面上,放在激光雕刻机内,然后用激光雕刻机制版,最后采用射流技术进行喷沙雕刻。本发明适用于雕刻高硬度材料印章,如翡翠,玛瑙,水晶,玉石等材料。本方法改变传统工艺作法,运用现代高科技的有机结合,大大提高雕刻速度,雕刻一枚高硬度材料印章,仅需5分钟,而字体不变形,保持原字体风格。利用本方法不仅能雕刻各种字体的图章,而且还能雕刻各种花纹、图案、花草鸟兽等。
搜索关键词: 硬度 材料 印章 雕刻 方法
【主权项】:
1.一种高硬度材料印章雕刻方法,首先将印章打磨平整,其特征是,将要雕刻的印文用电脑进行排版,把排好版的信息传送到激光雕刻机,再把软基片贴在打磨平整的印章面上,放在激光雕刻机内,然后用激光雕刻机制版,最后采用射流技术进行喷沙雕刻。
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