[发明专利]投影结构光的产生方法及装置无效
| 申请号： | 02131095.5 | 申请日： | 2002-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN1414412A | 公开（公告）日： | 2003-04-30 |
| 发明（设计）人： | 李恩邦;彭翔 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | G02B27/10 | 分类号： | G02B27/10;G02B27/28;G02B27/18 |
| 代理公司： | 天津市学苑有限责任专利代理事务所 | 代理人： | 赵尊生 |
| 地址： | 30007*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种投影结构光的产生方法及装置。该方法对相干光源的光束，通过分束、衍射、方向微调、空间滤波、光束间距变换、聚焦放大过程，在场景上投射得到干涉条纹强度为正弦分布的静止条纹结构光。其特征在于，分束后的两束平行光分别以Bragg角进入双声光调制器的两个输入端，同时采用频率相同且具有0～2π可调相位差的射频信号双声光调制器并且实时改变射频信号的频率。所述的装置由相干光源、分束器、双声光调制器及射频驱动电路、方向微调器、滤波器、间距变换器、聚焦透镜、显微物镜构成。本发明优点在于，装置无任何机械运动部件，实时产生空间变频和相位移动的投影结构光，抗外界干扰能力强、稳定性好和良好的可控性及普适性。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 结构 产生 方法 装置 | ||
【主权项】：
1、一种投影结构光的产生方法，该方法对相干光源的光束，通过分束、衍射、方向微调、空间滤波、光束间距变换、聚焦放大过程，在场景上投射得到干涉条纹强度为正弦分布的静止条纹结构光，其特征在于，分束后的两束平行光分别以Bragg角进入双声光调制器的两个输入端，同时采用频率相同且具有0～2π可调相位差的射频信号驱动双声光调制器并且实时改变射频信号的频率，从而在双声光调制器的两个输出端，输出偏转角度和相对相位可控的两束一级衍射光，该两束光再经方向微调、空间滤波、光束间距变换、聚焦放大、投射得到投影结构光。
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