[发明专利]双取向硅钢的真空退火工艺无效
申请号: | 02131107.2 | 申请日: | 2002-10-09 |
公开(公告)号: | CN1401793A | 公开(公告)日: | 2003-03-12 |
发明(设计)人: | 毛卫民;吴勇;余永宁 | 申请(专利权)人: | 北京科技大学 |
主分类号: | C21D1/26 | 分类号: | C21D1/26;C21D8/12;C22C38/02 |
代理公司: | 北京科大华谊专利代理事务所 | 代理人: | 杨玲莉 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种双取向硅钢的真空退火工艺,涉及金属材料的真空退火。本发明为了改善硅钢双向软磁性能,在钢板表面充分形成旋转立方织构,提出将含硅重量百分数在2.6%至3.2%之间的电工硅钢真空加热,加热温度在1050℃至1150℃之间,加热时间在1至8小时,不仅工艺路线简单,而且能促使相应冷轧硅钢表面形成很强的旋转立方织构,并导致钢板最终优异的双向软磁性能。 | ||
搜索关键词: | 取向 硅钢 真空 退火 工艺 | ||
【主权项】:
1、一种适用于含硅重量百分数在2.6%至3.2%之间的双取向电工硅钢的真空退火工艺,其特征在于,将其真空加热,加热温度在1050℃至1150℃之间,加热时间在1至8小时。
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