[发明专利]纵向晶体管、存储装置以及用于制造纵向晶体管的方法有效

专利信息
申请号: 02131511.6 申请日: 2002-06-25
公开(公告)号: CN1400669A 公开(公告)日: 2003-03-05
发明(设计)人: P·哈格梅耶 申请(专利权)人: 因芬尼昂技术股份公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L27/105;H01L21/336
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张志醒
地址: 联邦德*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种纵向晶体管(100),具有设置在半导体衬底(101)中的垂直方向上的一源区(103)、一漏区(109)、一栅极区(108)、和一在源区(103)与漏区(109)之间的沟道区(104),其中,栅极区(104)具有对源区(103)、对漏区(109)、和对沟道区(104)的电绝缘,并且是如此地围绕沟道区(104)设置的,使得栅极区(108)和沟道区(104)形成一同轴结构。
搜索关键词: 纵向 晶体管 存储 装置 以及 用于 制造 方法
【主权项】:
1.纵向晶体管·具有一源区,·具有一漏区,·具有一栅极区,和·具有一在源区和漏区之间的沟道区,·其中,在半导体衬底中的垂直方向上设置源区、沟道区和漏区,·其中,栅极区具有对源区、对漏区和对沟道区的电绝缘,和·其中,栅极区(104)是如此地围绕沟道区布置的,使得栅极区和沟道区(104)形成一种同轴结构。
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