[发明专利]GaP系半导体发光组件无效

专利信息
申请号: 02131970.7 申请日: 2002-08-30
公开(公告)号: CN1407636A 公开(公告)日: 2003-04-02
发明(设计)人: 鈴木金吾;池田均;金子康继 申请(专利权)人: 信越半导体株式会社
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 张政权
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 在GaP系半导体基体70中,以p型层侧的主面作为第一主面10,以其相反侧的主面作为第二主面12。在第二主面,藉由研磨后用王水蚀刻,以形成可提高光全反射之向半导体基体70内侧凸之镜面状凹曲面51的集合;另一方面,在半导体基体70之第一接触层62形成区域及第二主面11以外,藉由实施异向性蚀刻,以形成为降低光全反射之向外侧凸之凸曲面53的集合。又,将形成于第二主面11上之第二接触层64(第二电极63),用Au、Si及Ni所组成的合金所形成,将形成于第一主面10上之第一接触层62,用Au和Be或Zn之合金所形成。藉此,可提供出就算在间接跃迁型的发光形态也能充分的提高亮度之GaP系半导体发光组件。
搜索关键词: gap 半导体 发光 组件
【主权项】:
1、一种GaP系半导体发光组件,其特征在于:具备:具有p-n接合之GaP系半导体基体,以及用来对该半导体基体施加发光驱动电压之电极;以半导体基体之p型层侧的主面作为第一主面,以其相反侧的主面作为第二主面,在半导体基体之第一主面及侧面,形成向外侧凸之凸曲面所集合成之粗面,且在第二主面,系用王水蚀刻来形成镜面。
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