[发明专利]磁控式摇摆扫瞄型溅镀机有效
| 申请号： | 02132236.8 | 申请日： | 2002-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN1480557A | 公开（公告）日： | 2004-03-10 |
| 发明（设计）人： | 邓敦和;李正中 | 申请（专利权）人： | 瀚宇彩晶股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种磁控式摇摆扫瞄型溅镀机，是由溅镀靶、基座以及长形磁铁所组成，溅镀靶的表面设有靶材并与基座相对应，靶材在经过溅镀之后是沉积于基座之上，而长形磁铁则是设置于溅镀靶的背面，并以来回摇摆方式控制靶材的沉积，其中长形磁铁在其二端是分别设有消磁装置，其可以避免长形磁铁二端的磁场强度过强而对溅镀的品质造成影响。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控式 摇摆 扫瞄型溅镀机 | ||
【主权项】：
1.一种磁控式摇摆扫瞄型溅镀机，适用于一反应室，其特征在于包括：一溅镀靶，正面具有一靶材；一基座，与上述溅镀靶相对应，用以沉积经溅镀后的上述靶材；一长形磁铁，设置于上述溅镀靶的背面，并以来回摇摆方式控制上述基座表面的上述靶材的沉积；以及一消磁装置，设置于上述长形磁铁的二端，用以减弱上述长形磁铁二端的磁场强度。
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