[发明专利]检测自由电子激光光强密度的设备及方法无效

专利信息
申请号: 02137263.2 申请日: 2002-09-29
公开(公告)号: CN1401976A 公开(公告)日: 2003-03-12
发明(设计)人: 陆卫;江俊;李宁;李志锋;陈效双;郭旭光;陈贵宾 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: G01J1/00 分类号: G01J1/00;G01J1/42;G01N21/59
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 郭英
地址: 20008*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种关于检测自由电子激光光强密度的设备及方法,该设备包括自由电子激光器(FEL)、KBr分束片、能量辐射计及处理能量辐射计输出信号的计算机。该设备是用于测量窄禁带半导体材料的透射率,该方法是基于窄禁带半导体材料的透射率相对于FEL入射光强密度的固定关系来标定被测FEL光强密度。本发明的最大优点是整个测量过程大大简化,避免了光斑面积和脉冲半宽度测量所带来的不精确性,使获得的测量结果更精确。另外,由于本发明采用了透射特性十分稳定窄禁带半导体材料,如InSb或HgCdTe,因此用该方法测量的FEL的光强密度重复性好。
搜索关键词: 检测 自由电子 激光 密度 设备 方法
【主权项】:
1.一种检测自由电子激光光强密度的设备,其特点是:该设备依次包括:FEL(1)、光阑(2)、对FEL输出激光进行分束的KBr分束片(3)、若干片厚度不一的窄禁带半导体样品(4)、分别接收由KBr分束片分束的反射光和透射光的二个能量辐射计(6)(5)及处理二个能量辐射计输出信号的计算机(7);所说的窄禁带半导体样品(4)置于KBr分束片(3)透射光输出处和能量辐射计(5)之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海技术物理研究所,未经中国科学院上海技术物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/02137263.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top