[发明专利]掺铒氧化锌近红外光源无效
申请号: | 02137628.X | 申请日: | 2002-10-25 |
公开(公告)号: | CN1405902A | 公开(公告)日: | 2003-03-26 |
发明(设计)人: | 朱自强 | 申请(专利权)人: | 华东师范大学 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01S5/00 |
代理公司: | 上海德昭专利事务所 | 代理人: | 程宗德 |
地址: | 200062*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种掺铒氧化锌近红外光源,属半导体发光器件技术领域,在GaN基发光二极管上,沉积掺铒氧化锌单晶薄膜,转换波长,构成高效发射波长为1.54μm的近红外光源,有量子发光效率高和发射波长与工作温度无关等优点,特别适于在光通信技术中,与掺铒光纤放大器联用,作波长(1.54μm)不依赖于工作温度的高效近红外光源。 | ||
搜索关键词: | 氧化锌 红外 光源 | ||
【主权项】:
1.一种掺铒氧化锌近红外光源,包括衬底1、p-AlGaN层2、InGaN层3、n-AlGaN层4、掺铒化合物单晶薄层和金属电极7,衬底1是白宝石,即Al2O3的透明晶片,p-AlGaN层2、InGaN层3和n-AlGaN层4组成GaN基发光二极管,p-AlGaN层2和n-AlGaN层4上制有金属电极7,n-AlGaN层4上沉积有掺铒化合物单晶薄层,掺铒化合物单晶薄层或p-AlGaN层2沉积在衬底1上,其特征在于,还包括氧化锌单晶薄膜过渡层5,掺铒化合物单晶薄层是掺铒氧化锌单晶薄层6,氧化锌单晶薄膜过渡层5沉积在掺铒氧化锌单晶薄层6与n-AlGaN层4之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华东师范大学,未经华东师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/02137628.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:以印刷方式构装集成电路的方法
- 下一篇:光存储装置判别方法