[发明专利]产生单粒子纳米束的方法和装置无效

专利信息
申请号: 02138508.4 申请日: 2002-10-26
公开(公告)号: CN1450846A 公开(公告)日: 2003-10-22
发明(设计)人: 吴瑜;余增亮;王绍虎;胡素华;陈斌;李军;时钟涛;张俊 申请(专利权)人: 中国科学院等离子体物理研究所
主分类号: H05H1/00 分类号: H05H1/00;H05H3/00;H05H7/00
代理公司: 合肥华信专利事务所 代理人: 陈其霞,余成俊
地址: 230001*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明是对单粒子微束装置的改进与发展。目前的单粒子微束装置辐照精度最小在微米量级。由于单粒子定位定量照射靶材料,可以揭示粒子注入效应的本质,因此缩小单粒子微束装置的出口束斑则有助于深入研究粒子与物体相互作用的本质。本发明立足于束流发射度的测量与束聚焦调节、减小固体膜厚度、缩小瞄准器孔径,因而可以缩小单粒子微束装置的出口束斑。发明的核心内容是纳米孔的瞄准器和使得束流平行或会聚入射瞄准器的调节装置。本发明有望使单个粒子束技术与辐射生物学等领域研究的进入纳米尺度。
搜索关键词: 产生 粒子 纳米 方法 装置
【主权项】:
1、产生单粒子纳米束的方法,其特征在于在较成熟的单粒子微束装置的加速器与粒子传输系统与微束系统基础上,通过对发射度测量与束聚焦调节,探测束流性质,进而改变速流的品质,使束流以平行或聚焦的状态射入瞄准器,通过采取后探测方法减小固体膜厚度,进而减小粒子与固体膜碰撞带来的角度歧离,再通过采用在微米孔上蒸镀材料,获得纳米孔的办法缩小瞄准器孔径,从而使瞄准器出口的束斑缩小到纳米量级,为辐射生物学和材料学研究提供高品质的单个粒子束。
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