[发明专利]一种高沉积速率PCVD工艺制作光纤芯棒的方法有效
| 申请号： | 02139197.1 | 申请日： | 2002-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN1403397A | 公开（公告）日： | 2003-03-19 |
| 发明（设计）人： | 童维军;何珍宝;罗杰 | 申请（专利权）人： | 长飞光纤光缆有限公司 |
| 主分类号： | C03B37/012 | 分类号： | C03B37/012;C03B37/014;C03B37/018;C03B20/00;G02B6/00 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 | 代理人： | 胡建平 |
| 地址： | 430073 *** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种高沉积速率PCVD工艺制作芯棒的方法，采用等离子体化学气相沉积，在圆管形的石英衬管内壁上沉积纯硅或掺杂的氧化硅层，包括流经石英衬管的原料气体(或蒸气)，石英衬管穿过筒形的谐振腔且周期转动，同时谐振腔沿石英衬管轴向往复移动，其特征在于高频系统的输出高频功率最大可达3～6KW；反应所需主要原料气体的流量最高可达以纯SiCl4蒸气计800～2000sccm，总O21500～5000sccm，以纯GeCl4蒸气计20～500sccm，以纯Freon蒸气计10～100sccm；可实现的最大沉积速率(以纯硅计)为1.80～3.50g/min，沉积完毕后，在缩棒设备上将沉积管熔缩成实心芯棒。本发明能在保持PCVD原有工艺特性的基础上有效提高其沉积速率，从而提高PCVD工艺的生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 沉积 速率 pcvd 工艺 制作 光纤 方法 | ||
【主权项】：
1、一种高沉积速率PCVD工艺制作光纤芯棒的方法，采用等离子体化学气相沉积，在圆管形的石英衬管内壁上沉积纯硅或掺杂的氧化硅层，包括流经石英衬管的原料气体(或蒸气)，石英衬管穿过筒形的谐振腔且周期转动，同时谐振腔沿石英衬管轴向往复移动，其特征在于高频系统的输出高频功率最大可达3～6KW；反应所需主要原料气体的流量最高可达：以纯SiCl4蒸气计800～2000sccm，总O21500～5000sccm，以纯GeCl4蒸气计20～500sccm，以纯Freon蒸气计10～100sccm；可实现的最大沉积速率(以纯硅计)为1.80～3.50g/min，沉积完毕后，在缩棒设备上将沉积管熔缩成实心芯棒。
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