[发明专利]预测曝光能量的方法无效
| 申请号： | 02140149.7 | 申请日： | 2002-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN1403875A | 公开（公告）日： | 2003-03-19 |
| 发明（设计）人： | 张昆源;贺万祥;黄郁斌;蔡立达;吴仲雍 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/207;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 魏晓刚,李晓舒 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种预测曝光能量的方法，首先依照欲曝光层的掩膜关键尺寸计算欲曝光能量。再由欲曝光层的前层薄膜厚度，得知第一关键尺寸差异值，并由第一关键尺寸差异值计算出第一能量补偿值。接着查询光阻灵敏度的前后批次差异值是否小于1％。倘若光阻灵敏度的前后批次差异值小于1％，则欲曝光能量与第一能量补偿值的总和即为欲曝光层的曝光能量。否则依照光阻灵敏度的前后批次差异值，换算第二关键尺寸差异值，再由第二关键尺寸差异值计算第二能量补偿值，欲曝光能量与第一/第二能量补偿值的加总是为欲曝光层的曝光能量。 | ||
| 搜索关键词： | 预测 曝光 能量 方法 | ||
【主权项】：
1.一种预测曝光能量的方法，包括下列步骤：依照一欲曝光层的一掩膜关键尺寸计算一欲曝光能量；借由该欲曝光层的一前层薄膜厚度，以得知一第一关键尺寸差异值，并由该第一关键尺寸差异值计算出一第一能量补偿值；以及查询一光阻灵敏度的前后批次差异值，当该光阻灵敏度的前后批次差异值小于1％，则该欲曝光能量与该第一能量补偿值的总和为该欲曝光层的曝光能量。
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