[发明专利]分离栅极式快闪存储器及其制造方法有效
申请号: | 02140327.9 | 申请日: | 2002-07-01 |
公开(公告)号: | CN1466224A | 公开(公告)日: | 2004-01-07 |
发明(设计)人: | 谢佳达 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;H01L21/8246 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 楼仙英;陈红 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明涉及一种分离栅极式快闪存储器,包括:一基底、一隧穿介电层、一浮置栅极、一栅极间介电层以及一控制栅极。其中,隧穿介电层设置于具有一源/漏极区的基底上。浮置栅极设置于隧穿介电层上,且浮置栅极的底角为锐角。栅极间介电层设置于浮置栅极上。控制栅极设置于栅极间介电层上。再者,此存储器还包括:设置于控制栅极上的上盖绝缘层、设置于控制栅极及浮置栅极侧壁的介电间隔部、相邻于介电间隔部且与该源/漏极区连接的插塞以及设置于基底、上盖绝缘层及插塞上方的选择栅极,且分别与基底及插塞绝缘。 | ||
搜索关键词: | 分离 栅极 闪存 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种分离栅极式快闪存储器,其特征在于,包括:一基底,该基底中具有一源/漏极区;一隧穿介电层,设置于该基底上;一浮置栅极,设置于该隧穿介电层上,该浮置栅极的底角为锐角;一栅极间介电层,设置于该浮置栅极上;以及一控制栅极,设置于该栅极间介电层上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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