[发明专利]分离栅极式快闪存储器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 02140327.9 申请日: 2002-07-01
公开(公告)号: CN1466224A 公开(公告)日: 2004-01-07
发明(设计)人: 谢佳达 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/8246
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 楼仙英;陈红
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明涉及一种分离栅极式快闪存储器,包括:一基底、一隧穿介电层、一浮置栅极、一栅极间介电层以及一控制栅极。其中,隧穿介电层设置于具有一源/漏极区的基底上。浮置栅极设置于隧穿介电层上,且浮置栅极的底角为锐角。栅极间介电层设置于浮置栅极上。控制栅极设置于栅极间介电层上。再者,此存储器还包括:设置于控制栅极上的上盖绝缘层、设置于控制栅极及浮置栅极侧壁的介电间隔部、相邻于介电间隔部且与该源/漏极区连接的插塞以及设置于基底、上盖绝缘层及插塞上方的选择栅极,且分别与基底及插塞绝缘。
搜索关键词: 分离 栅极 闪存 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种分离栅极式快闪存储器,其特征在于,包括:一基底,该基底中具有一源/漏极区;一隧穿介电层,设置于该基底上;一浮置栅极,设置于该隧穿介电层上,该浮置栅极的底角为锐角;一栅极间介电层,设置于该浮置栅极上;以及一控制栅极,设置于该栅极间介电层上。
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