[发明专利]高抗辐射的六角形栅极的快闪存储单元有效
申请号: | 02141852.7 | 申请日: | 2002-08-22 |
公开(公告)号: | CN1477711A | 公开(公告)日: | 2004-02-25 |
发明(设计)人: | 蒋富成;张国华 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/105 | 分类号: | H01L27/105 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王学强 |
地址: | 台湾省新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种高抗辐射的六角形栅极的快闪存储单元,包括基底、源极区、漏极区以与栅极结构。漏极区与源极区之间形成信道区。栅极结构邻接于源极区与漏极区之间,其中栅极结构具有氧化物-氮化物-氧化物层,其中沿着与信道垂直方向上,栅极结构的幅度从源极区逐渐增加至预定位置后,再往漏极区逐渐减少。当快闪存储单元受到辐射照射时,产生的电子电洞对会入射至该基底中,而不会入射到氮化物层。当编码该快闪存储单元,靠近源极区的一部分栅极结构做为等效源极区,使等效源极区的大小大于漏极区,以防止第二位效应。 | ||
搜索关键词: | 辐射 六角形 栅极 闪存 单元 | ||
【主权项】:
1、一种高抗辐射的六角形栅极的快闪存储单元,其特征在于:包括:一基底;一源极区,位于该基底中;一漏极区,位于该基底中;一栅极结构,邻接于该源极区与该漏极区之间,其中该栅极结构包括一氧化物-氮化物-氧化物层与一控制栅层,依序堆栈于该基底上,且该栅极结构的上视剖面大致为一六角形,其中当该快闪存储单元受到辐射照射时,产生的电子电洞对会入射至该基底中。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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