[发明专利]高抗辐射的六角形栅极的快闪存储单元有效

专利信息
申请号: 02141852.7 申请日: 2002-08-22
公开(公告)号: CN1477711A 公开(公告)日: 2004-02-25
发明(设计)人: 蒋富成;张国华 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L27/105 分类号: H01L27/105
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 王学强
地址: 台湾省新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种高抗辐射的六角形栅极的快闪存储单元,包括基底、源极区、漏极区以与栅极结构。漏极区与源极区之间形成信道区。栅极结构邻接于源极区与漏极区之间,其中栅极结构具有氧化物-氮化物-氧化物层,其中沿着与信道垂直方向上,栅极结构的幅度从源极区逐渐增加至预定位置后,再往漏极区逐渐减少。当快闪存储单元受到辐射照射时,产生的电子电洞对会入射至该基底中,而不会入射到氮化物层。当编码该快闪存储单元,靠近源极区的一部分栅极结构做为等效源极区,使等效源极区的大小大于漏极区,以防止第二位效应。
搜索关键词: 辐射 六角形 栅极 闪存 单元
【主权项】:
1、一种高抗辐射的六角形栅极的快闪存储单元,其特征在于:包括:一基底;一源极区,位于该基底中;一漏极区,位于该基底中;一栅极结构,邻接于该源极区与该漏极区之间,其中该栅极结构包括一氧化物-氮化物-氧化物层与一控制栅层,依序堆栈于该基底上,且该栅极结构的上视剖面大致为一六角形,其中当该快闪存储单元受到辐射照射时,产生的电子电洞对会入射至该基底中。
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