[发明专利]排除不影响合格率的重复性缺陷来监控真正缺陷的方法有效
| 申请号： | 02142190.0 | 申请日： | 2002-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN1479360A | 公开（公告）日： | 2004-03-03 |
| 发明（设计）人： | 陈功益;陈威铭;古淑玲;丁茂益;何濂泽 | 申请（专利权）人： | 旺宏电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/66 | 分类号： | H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王学强 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种排除不影响合格率的重复性缺陷来监控真正缺陷的方法，此方法首先提供一晶圆，其中晶圆上已形成有数个晶粒，且在晶圆上发现有一重复性缺陷存在。接着，确认此重复性缺陷是否为一影响合格率的缺陷。倘若此重复性缺陷并非影响合格率的缺陷，则定义此重复性缺陷所存在之一区域为一排除区域。之后，扫描晶圆上此排除区域以外的部分，以找出一真正的缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 排除 影响 合格率 重复性 缺陷 监控 真正 方法 | ||
【主权项】：
1.一种排除不影响合格率的重复性缺陷来监控真正缺陷的方法，其特征是，该方法包括：提供一晶圆，该晶圆上已形成有数个晶粒，且在该晶圆上发现有一重复性缺陷存在；确认该重复性缺陷是否为一影响合格率的缺陷；倘若该重复性缺陷并非该影响合格率的缺陷，则定义该重复性缺陷所存在的一区域为一排除区域；以及扫描该晶圆上该排除区域以外的部分，以找出一真正缺陷。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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