[发明专利]扫描光学器件以及使用该器件的成像设备有效
| 申请号： | 02142203.6 | 申请日： | 2002-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN1402040A | 公开（公告）日： | 2003-03-12 |
| 发明（设计）人： | 加藤学;佐藤浩;下村秀和;石原圭一郎 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G02B26/00 | 分类号： | G02B26/00;G02B26/10 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李德山 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种扫描光学器件以及使用该器件的成像设备，其中该扫描光学器件包括由单透镜提供的扫描光学元件。关于在光轴上沿着副扫描方向具有较大折射能力的单透镜的两个光学表面中的预定一个，确定该单透镜的光学表面的形状以满足下式0.9≤φm/φp≤φmx/φpx＝1.0≤1.1φm/φp其中φp为单透镜在光轴上沿着副扫描方向的折射能力，φm为单透镜在最离轴处沿着副扫描方向的折射能力，φpx为在光轴上沿着副扫描方向在单透镜的预定光学表面处的折射能力，φmx为在最离轴处沿着副扫描方向在单透镜的预定光学表面处的折射能力。 | ||
| 搜索关键词： | 扫描 光学 器件 以及 使用 成像 设备 | ||
【主权项】：
1.一种扫描光学器件，它包括：光源；用于使从所述光源中发出的光束扫描地偏转的偏转元件；以及用于使所偏转的光束在所要扫描的表面上成像的扫描光学元件；其中所述扫描光学元件包括用模制工艺制成的单透镜；其中，所述扫描光学元件沿着副扫描方向的近轴成像放大率和离轴成像放大率之间的差异不大于10％；并且其中，相对于在光轴上沿着副扫描方向具有较大折射能力的所述单透镜的两个光学表面中的预定一个，所述单透镜的光学表面的形状如此确定从而满足以下关系式：0.9φm/φp≤φmx/φpx＝1.0≤1.1φm/φp其中φp为所述单透镜在所述光轴上沿着副扫描方向的折射能力，φm为所述单透镜在最离轴处沿着所述副扫描方向的折射能力，φpx为所述单透镜在光轴上沿着副扫描方向在所述预定光学表面处的折射能力，并且φmx为所述单透镜在最离轴处沿着副扫描方向在所述预定光学表面处的折射能力。
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