[发明专利]制造薄膜晶体管液晶显示器的绝缘薄膜的组合设备有效
| 申请号： | 02142425.X | 申请日： | 2002-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN1484069A | 公开（公告）日： | 2004-03-24 |
| 发明（设计）人： | 林辉巨 | 申请（专利权）人： | 统宝光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;H01L21/31;B08B11/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汤保平 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种制造薄膜晶体管液晶显示器的绝缘薄膜的组合设备，是由一化学气相沉积装置、一清洗室、一晶舟站以及用以传送基板至上述各部件的一转移系统结合而成，其配置系化学气相沉积装置相对于晶舟站，转移系统位于晶舟站与化学气相沉积装置之间，而清洗室邻近转移系统。当基板从晶舟站由转移系统进入化学气相沉积装置后，会先进行第一次沉积，以沉积约预定厚度的一半的绝缘薄膜，然后基板会再由转移系统进入清洗室中以湿式清洗将绝缘薄膜中的微粒清除。之后，再由转移系统进入化学气相沉积装置进行第二次沉积，以补足预定厚度的绝缘薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 薄膜晶体管 液晶显示器 绝缘 薄膜 组合 设备 | ||
【主权项】：
1.一种制造薄膜晶体管液晶显示器的绝缘薄膜的组合设备，适于一基板上沉积一绝缘薄膜，其特征在于，包括：一晶舟站；一化学气相沉积装置，相对于该晶舟站；一转移系统位于该晶舟站与该化学气相沉积装置之间，用以转移该基板；以及一清洗室，邻近该转移系统。
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