[发明专利]掩模及其制造方法、场致发光装置及其制造方法以及电子机器有效
| 申请号： | 02142597.3 | 申请日： | 2002-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN1494359A | 公开（公告）日： | 2004-05-05 |
| 发明（设计）人： | 四谷真一 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种掩模的制造方法，包括在形成了开口(12)的第一衬底(10)上安装形成了多个贯通孔(22)的第二衬底(20)。安装第二衬底(20)时使多个贯通孔(22)配置在开口(12)的内侧。在第一衬底(10)的与第二衬底(20)相对的面上形成沟(14)。通过沟(14)，在第一、第二衬底(10、20)之间形成流路。能提供被有效冷却的掩模及其制造方法、场致发光装置及其制造方法以及电子机器。 | ||
| 搜索关键词： | 及其 制造 方法 发光 装置 以及 电子 机器 | ||
【主权项】：
1.一种掩模的制造方法，其中，包括在形成有开口的第一衬底上安装形成了多个贯通孔的第二衬底；安装所述所述第二衬底时使所述多个贯通孔位于所述开口的内侧；所述第一衬底上与第二衬底相对的面和所述第二衬底上与第一衬底相对的面中至少一方上形成了沟；通过所述沟，在所述第一和第二衬底之间形成流路。
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