[发明专利]钌络合物、其制造方法以及薄膜的制造方法有效
| 申请号： | 02142607.4 | 申请日： | 2002-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN1408717A | 公开（公告）日： | 2003-04-09 |
| 发明（设计）人： | 河野和久;关本谦一;大岛宪昭;涩田见哲夫;熊谷周治;古川泰志 | 申请（专利权）人： | 东曹株式会社 |
| 主分类号： | C07F15/00 | 分类号： | C07F15/00;C23C16/18 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 钟守期,庞立志 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供熔点低、汽化特性优异，而且在基板上成膜温度低的金属有机化合物，并以其作为原料由CVD法制造含钌薄膜。以通式[1]表示的有机钌化合物[具体例子是(2，4－二甲基戊二烯)(乙基环戊二烯)合钌]或者以通式[7]表示的有机钌化合物[具体例子是羰基二(2－甲基－1，3－戊二烯)合钌]为原料，由化学气相蒸镀法等制造含钌薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 络合物 制造 方法 以及 薄膜 | ||
【主权项】：
1.半夹层结构有机钌化合物，其特征在于，它用通式[1]表示：在此通式中，R1、R2、R3、R4相同或不同，表示氢原子、卤素、低级酰基、低级烷氧基、低级烷氧羰基或者低级烷基，但是不包括R1～R4都是氢原子的情况，也不包括当R1是氢原子、而R2～R4中一个是氢原子、其余的是甲基的情况。
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