[发明专利]水中深次微米颗粒去除系统及方法有效

专利信息
申请号: 02143091.8 申请日: 2002-09-28
公开(公告)号: CN1485286A 公开(公告)日: 2004-03-31
发明(设计)人: 金光祖;汤鸿祥 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: C02F9/06 分类号: C02F9/06;C02F9/02;//;1:463;1:66;1:72;1:44;1:42;1:28;1:20)
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 李柏
地址: 台湾省新竹县*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明揭示去除水中深次微米颗粒的流程与装置。本发明流程包括pH值调整、电导度调整、添加氧化剂、电混凝反应/电氧化反应、及胶羽沉降等步骤。本发明的装置包括一前调整槽,其用于废水性质的调整,该废水性质的调整为pH值调整、电解质调整或氧化剂添加等作用;一电混凝反应槽,其接收来自前调整槽的水,该电混凝反应槽具有一对间隔开的电极,该对电极中的一个电极为铁;一后调整槽,其用于调整该电混凝反应槽的出流水的pH;及一沉淀池,其接收来自该后调整槽的pH值调整后含有沉降性胶羽的处理水,并提供该处理水足够的停留时间,以利其中深次微米颗粒形成胶羽并沉降去除。
搜索关键词: 水中 微米 颗粒 去除 系统 方法
【主权项】:
1.一种水中深次微米颗粒的去除模块,包括:一前调整槽,其用于废水性质的调整,该废水性质的调整为pH值调整、电解质调整或氧化剂添加等作用;一电混凝反应槽,其接收来自前调整槽的水,并于槽中进行电混凝及电氧化反应;一后调整槽,其用于调整该电混凝反应槽的出流水的pH;及一沉淀池,其接收来自该后调整槽的pH值调整后含有沉降性胶羽的处理水,并提供该处理水足够的停留时间,以利其中深次微米颗粒形成胶羽并沉降去除。
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