[发明专利]声表面波元件的电极图案形成方法无效
| 申请号： | 02143232.5 | 申请日： | 2002-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN1405978A | 公开（公告）日： | 2003-03-26 |
| 发明（设计）人： | 坂口健二;冬爪敏之 | 申请（专利权）人： | 株式会社村田制作所 |
| 主分类号： | H03H3/08 | 分类号： | H03H3/08 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 孙敬国 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明揭示一种声表面波元件的电极图案形成方法，在压电基板1的表面形成抗蚀膜2，在压电基板1的表面上方设置光掩膜并用紫外光对抗蚀膜2进行曝光处理，由此在压电基板1表面上形成抗蚀膜图案2a，再在该压电基板1的表面上形成导体膜7，用剥离法除去抗蚀膜图案2a，形成声表面波元件的电极图案，采用紫外光进行曝光处理，紫外光的波长是用相对于压电基板1的规定厚度而言，由压电基板1中吸收使紫外光不到达压电基板1的内表面的波长。本方法能防止抗蚀膜图案的形状发生异常并完全防止其发生。 | ||
| 搜索关键词： | 表面波 元件 电极 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种声表面波元件的电极图案形成方法，其特征在于，在压电基板的表面上形成抗蚀膜，在所述压电基板的表面上方设置光掩膜并用紫外对所述抗蚀膜进行曝光处理后，在所述压电基板表面上形成导体膜，并除去所述抗蚀膜，相对于所述压电基板的规定厚度，使用其波长为低于由所述压电基板中吸收而达不到所述压电基板的内表面的波长的紫外光，进行所述曝光处理。
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