[发明专利]强电介质记忆装置及其制造方法无效

专利信息
申请号: 02143288.0 申请日: 2002-09-25
公开(公告)号: CN1409398A 公开(公告)日: 2003-04-09
发明(设计)人: 吉川贵文;三河巧 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H01L27/10 分类号: H01L27/10;H01L21/8239
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种强电介质记忆装置。在多个强电介质电容器中的在字线方向及位线方向的一方向上排列的多个强电介质电容器的相邻下部电极之间埋入第一绝缘性氢气阻挡膜。在一方向上排列的多个强电介质电容器的下部电极及第一绝缘性氢气阻挡膜上,形成由在一方向上排列的多个强电介质电容器共用的电容绝缘膜。在共用电容绝缘膜上,形成由在一方向上排列的多个强电介质电容器所共用的上部电极。共用上部电极上由形成的第二绝缘性氢气阻挡膜所覆盖。
搜索关键词: 电介质 记忆 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种强电介质记忆装置,包括具有依次形成在半导体基板上的层间绝缘膜上的下部电极、由强电介质膜构成的电容绝缘膜及上部电极的、被配置在字线方向及位线方向上的多个强电介质电容器,其特征在于:在所述多个强电介质电容器中,在字线方向及位线方向的其中一方向上排列的多个强电介质电容器的相邻下部电极之间埋入第一绝缘性氢气阻挡膜;在所述一方向上排列的多个强电介质电容器的所述下部电极及所述第一绝缘性氢气阻挡膜上,形成由在所述方向上排列的多个强电介质电容器所共用的电容绝缘膜;在所述共用电容绝缘膜上,形成由在所述方向上排列的多个强电介质电容器上共用的上部电极;形成覆盖所述共用上部电极的第二绝缘性氢气阻挡膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器产业株式会社,未经松下电器产业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/02143288.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top