[发明专利]在反应室中隔离密封件的方法和装置无效
申请号: | 02143456.5 | 申请日: | 2002-08-19 |
公开(公告)号: | CN1405863A | 公开(公告)日: | 2003-03-26 |
发明(设计)人: | 戴维·鲁宾逊;迈克尔·德雷珀;戴夫·洛佩斯 | 申请(专利权)人: | ASML美国公司 |
主分类号: | H01L21/324 | 分类号: | H01L21/324;H01L21/205;C23C16/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 刘志平 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供装置和方法,用于在加压、抽真空或排气的反应室(100)中隔离聚合材料制成的密封件(110),其中密封件(110)减少由于从反应室向密封件传导热量导致的损坏。反应室(100)包括壁(125),其中具有缝隙(140);边沿(115),关于缝隙放置;和边沿与固定件(120)之间的隔离件(105),隔离边沿与固定件之间的密封件。通常,隔离件(105)包括冷却管道或冷却循环管(260),它具有侧壁(262),覆盖边沿(115)并与之连接,并且帽(255)覆盖循环管。帽(255)具有密封表面(257),密封件(110)紧贴密封表面(257)放置。液体可以流过循环管(260),减少传导到密封件(110)上的热量。边沿(115)、循环管(260)和帽(255)最好由石英或玻璃制成,并且循环管的侧壁(262)焊接到边沿和帽上。更为优选的是,循环管(260)用作光导管,将反应室(100)辐射的热量从密封件(110)传导出去。 | ||
搜索关键词: | 反应 隔离 密封件 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.反应室,包括:壁,其中具有缝隙;边沿,绕缝隙放置;和隔离件,在边沿与固定件之间,隔离边沿与固定件之间的密封件,隔离件包括:冷却管道,具有侧壁,覆盖边沿,并且与边沿连接;和帽,覆盖冷却管道,帽具有密封表面,密封件紧贴密封表面放置,来密封边沿与密封件,其中冷却管道减少反应过程中从反应室向密封件传递的热量。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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