[发明专利]电光学装置及其制造方法和电子设备有效
| 申请号： | 02144090.5 | 申请日： | 2002-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN1410804A | 公开（公告）日： | 2003-04-16 |
| 发明（设计）人： | 村出正夫 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/133 | 分类号： | G02F1/133;G02F1/1343;G02F1/136 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 马铁良,叶恺东 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 电光学装置配有在TFT阵列基片上被配置在图像显示区域内的像素电极；被配置在位于图像显示区域外围的外围区域、构成外围电路的TFT；按照至少部分覆盖外围区域的原则被形成的保护膜。保护膜不被设置在图像显示区域内的各像素开口区域的至少一部分。这样，在液晶装置等电光学装置中，通过用保护膜保护被设置到基片上的晶体管等电子元件，可延长装置寿命，同时可防止由于该保护膜的存在引起的显示图像的质量下降。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 装置 及其 制造 方法 电子设备 | ||
【主权项】：
1.一种电光学装置，其特征是：配有被配置在基片上的图像显示区域的显示用电极；被配置在位于上述图像显示区域外围的外围区域、构成外围电路的电子元件；按照至少部分覆盖上述外围区域的原则而被形成的保护膜，上述保护膜不被设置在上述图像显示区域内的各像素开口区域的至少一部分。
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