[发明专利]真空涂层设备

摘要

本发明涉及到一种真空涂层设备，用于在处理室中对带形材料涂层，其中安排有解卷装置和卷取装置，在其间被涂层的带形材料穿过至少一个处于处理室真空下的可抽真空的处理室，其中在处理室中安排至少一个冷轧辊，在所述冷轧辊的表面上方至少有两个磁控管喷涂源，所述磁控管喷涂源彼此分开地安排在磁控管腔内，本发明旨在降低清洁磁控管腔时的保养费用，并且改善磁控管腔壁与处理室之间的气体分离。所述的任务的解决一方面是通过磁控管腔由分开的磁控管腔壁构成，所述磁控管腔壁在其离冷轧辊表面而去的侧面包围各个磁控管喷涂源，其中磁控管腔壁，与磁控管喷涂源一样，至少间接地固定在一个公共的小车上，所述小车可以平行于冷轧辊轴线驶开，另一方面是通过分开地为处理室和磁控管腔抽真空，在此磁控管腔中的工艺压力高于处理室中的工艺压力。

主权项

1.一种真空涂层设备，用于在处理室中对带形材料涂层，其中安排有解卷装置和卷取装置，在其间被涂层的带形材料穿过至少一个处于处理室真空下的可抽真空的处理室，其中在处理室中安排至少一个冷轧辊，在所述冷轧辊的表面上方至少有两个磁控管喷涂源，所述磁控管喷涂源彼此分开地安排在磁控管腔内，其特征在于，磁控管腔(7)各自一方面以冷轧辊(3)为界另一方面以磁控管腔壁(5)为界，从而磁控管腔(7)借助于气流阻力(6)部分地包围冷轧辊(3)，并且磁控管腔壁(5)在外部完全地由处理室真空包围，并且每个磁控管腔(7)和处理室真空之间有可以调节的压差。