[发明专利]制造散射光栅或准直器的方法无效

专利信息
申请号: 02144468.4 申请日: 2002-09-28
公开(公告)号: CN1409326A 公开(公告)日: 2003-04-09
发明(设计)人: 里科·艾达姆;马丁·霍海塞尔;马丁·谢弗;哈马特·斯克莱比茨;彼得·斯特拉特纳 申请(专利权)人: 西门子公司
主分类号: G21K1/02 分类号: G21K1/02;G21K1/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 侯宇,陶凤波
地址: 联邦德*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种用于制造散射光栅或准直器的方法,该散射光栅或准直器具有对于一种射线类型的射入的可预定几何形状的通透区(5)和非通透区(6),按照该方法,首先确定散射光栅或准直器的通透区(5)和非通透区(6)的几何形状;然后借助一种速成样品技术并通过借助射线作用逐层使一种合成材料硬化,根据所述通透区(5)或非通透区(6)可能偏差一定层厚的几何形状构造出一个基体(16);最后基于该基体(16)制造出散射光栅或准直器。本发明方法可以简便而廉价地制造出具有非常精密的射线吸收透孔结构的散射光栅或准直器。由此实现在拍摄图像时更好地充分利用一次射线。
搜索关键词: 制造 散射 光栅 准直器 方法
【主权项】:
1.一种用于制造散射光栅或准直器的方法,该散射光栅或准直器具有对于一个类型的射入射线的可预定几何形状的通透区(5)和非通透区(6),该方法包括下述步骤:-确定该散射光栅或准直器的通透区(5)和非通透区(6)的几何形状;-借助一种速成样品技术并通过借助射线作用逐层使一种合成材料硬化,根据所述通透区(5)或非通透区(6)可能偏差一定层厚的几何形状构造出一个基体(16);-基于该基体(16)制造出该散射光栅或准直器。
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