[发明专利]一种释放显影抑制基品成色剂无效
| 申请号： | 02144518.4 | 申请日： | 2002-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN1435726A | 公开（公告）日： | 2003-08-13 |
| 发明（设计）人： | 修煜;李善柱;欧阳贵平;陈学慧;范天奕;罗鸿椾;许丽 | 申请（专利权）人： | 中国乐凯胶片集团感光化工研究院 |
| 主分类号： | G03C7/305 | 分类号： | G03C7/305;G03C7/26 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利代理有限责任公司 | 代理人： | 许宗富,周秀梅 |
| 地址： | 110015 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种释放显影抑制基的品成色剂，其化合物结构通式为右式：其中：R1为防扩散基，R2为卤素原子或带有其他取代基的芳香族基团，PUG为显影抑制基团。本发明用于彩色感光材料中，PUG在一定的条件下，可从该品成色剂的分子上裂解下来，可以用来改善卤化银负性感光材料品层的影像颗粒度和彩色再现性，从而大大提高了影像质量；另外，合成成本相对较低，显影抑制剂释放速度快，在改进彩色再现性和清晰度效果方面较好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 释放 显影 抑制 成色 | ||
【主权项】：
1.一种释放显影抑制基的品成色剂，其化合物通式为：其中R1为防扩散基团；R2为含有卤素原子取代或其他取代基的芳香族基团；其特征在于：以噁二唑类巯基化合物PUG为显影抑制基团；该显影抑制基PUG基团的巯基与吡唑啉酮类化合物的亚甲基相连接；其结构通式为：其中R3为-OCH2-或-SCH2-；R4为带有取代基或不带取代基的芳香族基团；具体结构如下：或
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