[发明专利]曝光系统及其曝光方法有效
| 申请号： | 02145826.X | 申请日： | 2002-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN1490673A | 公开（公告）日： | 2004-04-21 |
| 发明（设计）人： | 林本坚 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/207 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈红;潘培坤 |
| 地址： | 台湾*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种曝光系统及其曝光方法，利用在欲曝光的晶片与镜头之间提供一液体，以提高曝光路径的折射率。此曝光系统至少包括：一液体槽，用以承载液体；一晶片支撑装置，设置于液体槽内部，用以支撑晶片，使得晶片表面与液体接触；以及一曝光装置，具有一镜头，设置于液体槽内部的晶片上方，使镜头表面与液体接触。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 系统 及其 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光系统，适用以通过一液体对一晶片进行曝光，其特征在于，它包括：一液体槽，用以承载所述液体；一晶片支撑装置，设置于所述液体槽内部，用以支撑所述晶片，使得所述晶片欲曝光的表面与所述液体接触；以及一曝光装置，具有一镜头，设置于所述晶片上方，且使所述镜头表面与所述液体接触。
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