[发明专利]用超临界气体饱和溶液制造超细微粒的方法和设备无效
| 申请号： | 02146099.X | 申请日： | 2002-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN1498675A | 公开（公告）日： | 2004-05-26 |
| 发明（设计）人： | 尹恩华 | 申请（专利权）人： | 尹恩华 |
| 主分类号： | B01J2/00 | 分类号： | B01J2/00;B01D11/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100083北京市海淀区东升*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用超临界气体饱和溶液制造超细微粒的方法和设备。为解决现有制造超临界方法快速膨胀超临界溶液法和超临界反萃取法只能应用于溶解二氧化碳和有机溶剂的溶质的局限性，超临界气体饱和溶液法能应用在溶解于水中的溶质，其应用范围广，适用于生化医药、各种黏结剂、各种金属氧化物、塑料涂层、塑料添加剂、超导材料和尖晶石，尤其适用于蛋白质、多肽、核酸、基因材料的加工。 | ||
| 搜索关键词： | 临界 气体 饱和溶液 制造 细微 方法 设备 | ||
【主权项】：
1、一种超临界气体饱和溶液制造超细微粒的方法，其包括RESS即快速膨胀超临界溶液法、SAS即超临界反萃剂法；其特征在于其造粒步骤是将用水溶解的物质(溶质)的溶液，经二氧化碳饱和后在一定温度、压力和溶液流量条件下，经限流器快速膨胀，这时溶液被雾化成很微细的气溶胶，再经辅助气将其携带到一定温度的温区，这时气溶胶中的二氧化碳和水膨胀而挥发随辅助气被排放，即得超细微粒。
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