[发明专利]分布反馈型激光装置有效
| 申请号： | 02147339.0 | 申请日： | 2002-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN1438743A | 公开（公告）日： | 2003-08-27 |
| 发明（设计）人： | 奥贯雄一郎 | 申请（专利权）人： | 三菱电机株式会社 |
| 主分类号： | H01S5/12 | 分类号： | H01S5/12 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨凯,叶恺东 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明旨在提供能够抑制因制造偏差引起的光耦合系数的变动的、使制造合格率得以提高的分布反馈型激光装置，其中设有：位于InP衬底(1)上激活层(4)两侧的包覆层，以及位于任一包覆层中的、与包覆层折射率不同的、带有在光出射方向以预定间距在与该出射方向相交的方向上延伸的栈状格子的衍射光栅(6)；还至少设有一层光分布调整层(2)，该层位于与所述衍射光栅相分离的包覆层内，其成分与所述衍射光栅的相同。 | ||
| 搜索关键词： | 分布 反馈 激光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种分布反馈型激光装置，包括：设置在半导体衬底上的位于激活层两侧的包覆层，以及位于任一所述包覆层中的、与所述包覆层折射率不同的、带有在光出射方向以预定间距在与该出射方向相交的方向上延伸的栈状格子的衍射光栅；至少设有一层光分布调整层，该层位于与所述衍射光栅相分离的所述包覆层内，其成分与所述衍射光栅的相同。
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