[发明专利]一种自组织量子点为有源区的超辐射发光管无效
申请号: | 02147587.3 | 申请日: | 2002-10-17 |
公开(公告)号: | CN1490887A | 公开(公告)日: | 2004-04-21 |
发明(设计)人: | 张子旸;王占国;徐波;金鹏;刘峰奇 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01S5/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汤保平 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种自组织量子点为有源区的超辐射发光管,其中包括:一上限制层;一上渐变折射率波导层,该上渐变折射率波导层制作在上限制层的下面;一自组织量子点有源区,该自组织量子点有源区制作在上渐变折射率波导层的下面;一下渐变折射率波导层,该下渐变折射率波导层制作在量子点有源区的下面;一下限制层,该下限制层制作在下渐变折射率波导层的下面;一衬底,该衬底在下限制层的下面;一层介质膜,该介质膜淀积在上限制层上,在介质膜上腐蚀出倾斜的条形电流注入区;其中该自组织量子点有源区包括:5个周期的量子点;在该5个周期的铟砷量子点的上面均有一层应力缓冲层,在每一应力缓冲层的上面均有一间隔层。 | ||
搜索关键词: | 一种 组织 量子 有源 辐射 发光 | ||
【主权项】:
1、一种自组织量子点为有源区的超辐射发光管,其特征在于,其中包括:一上限制层;一上渐变折射率波导层,该上渐变折射率波导层制作在上限制层的下面;一自组织量子点有源区,该自组织量子点有源区制作在上渐变折射率波导层的下面;一下渐变折射率波导层,该下渐变折射率波导层制作在量子点有源区的下面;一下限制层,该下限制层制作在下渐变折射率波导层的下面;一衬底,该衬底在下限制层的下面;一层介质膜,该介质膜淀积在上限制层上,在介质膜上腐蚀出倾斜的条形电流注入区;其中该自组织量子点有源区包括:5个周期的量子点;在该5个周期的铟砷量子点的上面均有一层应力缓冲层,在每一应力缓冲层的上面均有一间隔层。
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