[发明专利]主动式有机发光二极管的制造方法有效

专利信息
申请号: 02148758.8 申请日: 2002-11-15
公开(公告)号: CN1501516A 公开(公告)日: 2004-06-02
发明(设计)人: 萧调宏 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L51/40
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 王学强
地址: 台湾省新竹科学*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种主动式有机发光二极管的制造方法,此方法首先在一基板上形成一栅极以及与栅极连接的一扫描配线。接着,在基板上形成一栅介电层。之后,在栅极上方的栅介电层上形成一微晶硅通道层。继之,在栅介电层上形成一阳极层,在微晶硅通道层上形成一源极/漏极,并且同时形成与源极连接的一数据配线,而构成一薄膜晶体管。接着,在基板的上方形成一保护层,覆盖薄膜晶体管上并暴露出阳极层,之后进行一紫外线-臭氧活化工艺,以活化阳极层。接续,于基板的上方依序形成一发光层与一阴极层。
搜索关键词: 主动 有机 发光二极管 制造 方法
【主权项】:
1.一种主动式有机发光二极管的制造方法,其特征是,该方法包括:在一基板上形成一栅极以及与该栅极连接的一扫描配线;在该基板上形成一栅介电层,覆盖该栅极与该扫描配线;在该栅极上方的该栅介电层上形成一微晶硅通道层;在部分该栅介电层上形成一阳极层;在该微晶硅通道层上形成一源极/漏极,并且同时形成与该源极连接的一数据配线,其中该漏极是与该阳极层电性连接,且该栅极、该通道层以及该源极/漏极构成一薄膜晶体管;在该基板的上方形成一保护层,覆盖该薄膜晶体管并暴露出该阳极层;进行一紫外线-臭氧活化工艺,以活化该阳极层;在该基板的上方形成一发光层,覆盖该保护层以及该阳极层;以及在该发光层上形成一阴极层。
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