[发明专利]具有多个稳定存储状态的单电子存储器及制法无效

专利信息
申请号: 02149483.5 申请日: 2002-11-21
公开(公告)号: CN1494151A 公开(公告)日: 2004-05-05
发明(设计)人: 孙劲鹏;王太宏 申请(专利权)人: 中国科学院物理研究所
主分类号: H01L27/00 分类号: H01L27/00;H01L21/84
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 王凤华
地址: 100080北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种有多个稳定存储状态的单电子多值动态随机存储器及制备方法,该存储器包括五个部分:传统的MOSFET、单电子晶体管、二极管、存储结和多隧穿结结构;MOSFET的栅极与导电沟道电容耦合的同时与其漏极电容耦合在一起;同时将MOSFET的漏极作为一端制备出p-n结二极管结构,中间形成空间电荷耗尽区;单电子晶体管的源极和漏极与单电子晶体管的量子点极弱耦合,同时,量子点与器件的存储结电容耦合在一起;存储结的另一端与多隧穿结相连,多隧穿结的引线与二极管的一端相连。器件理论上具有任意多个稳定的存储状态,状态之间的变化可以通过控制极少数电子的运动来实现,因此可以实现低功耗下的信息超高密度存储;并且制备方法易于实现工业化生产。
搜索关键词: 具有 稳定 存储 状态 电子 存储器 制法
【主权项】:
1.一种具有多个稳定存储状态的单电子存储器,包括:一衬底,在其衬底上的导电层上通过半导体工艺制备出一传统的金属-氧化物-半导体场效应晶体管和单电子晶体管;其特征在于:还包括p-n结二极管、存储结和多隧穿结结构;其中金属-氧化物-半导体场效应晶体管的栅极与金属-氧化物-半导体场效应晶体管的导电沟道电容耦合,同时它也与金属-氧化物-半导体场效应晶体管的漏极电容耦合在一起;并且金属-氧化物-半导体场效应晶体管的漏极作为p-n结二极管的n端制备出p-n结二极管结构,中间形成空间电荷耗尽区;单电子晶体管中的量子点与器件的存储结电容耦合在一起;存储结的另一端与多隧穿结相连,多隧穿结的引线与p-n结二极管的p端相连。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院物理研究所,未经中国科学院物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/02149483.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top