[发明专利]一种高分散纳米二氧化硅的制备方法有效

专利信息
申请号: 02149782.6 申请日: 2002-12-30
公开(公告)号: CN1422805A 公开(公告)日: 2003-06-11
发明(设计)人: 段先健;王跃林;杨本意;李亚静 申请(专利权)人: 广州吉必时科技实业有限公司
主分类号: C01B33/12 分类号: C01B33/12;C01B33/18;C01B13/14
代理公司: 广州知友专利代理有限公司 代理人: 李海波
地址: 510510 *** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种高分散纳米二氧化硅的制备方法,采用氧气氢气有机卤硅烷按一定的比例连续地输进燃烧喷嘴在反应室中燃烧反应,同时在反应室中输入一保护气体,卤硅烷利用燃烧生成的水以及产生的热量进行高温水解缩合反应,反应产物经过聚集气固分离脱酸等后处理工艺得到本发明制备的纳米二氧化硅其原生粒径在7~40nm之间,比表面积在100~400m2/g之间采用本发明的燃烧喷嘴和反应室,可防止生产过程中纳米二氧化硅在反应室壁上的沉积,提高了生产的连续性以及产品的稳定性,本发明采用的煅烧脱酸工艺,同时通入水蒸气和惰性气体,保证脱酸后产品的pH值为3.8~4.5之间整个生产过程形成一个封闭的系统,没有粉尘污染,二氧化硅的收率大于99%。
搜索关键词: 一种 分散 纳米 二氧化硅 制备 方法
【主权项】:
1、一种高分散纳米二氧化硅的制备方法,其特征在于:将氧气、氢气、有机卤硅烷按1∶1.2~2∶0.3~1的比例(标准体积)连续地输进燃烧喷嘴在反应室中燃烧反应,同时在反应室中输入一保护气体,卤硅烷利用燃烧生成的水以及产生的热量在1000~1700℃下进行高温水解缩合反应,反应产物经过聚集、气固分离、脱酸等后处理工艺,最后经真空包装成品。
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