[发明专利]改善接触孔图案化的方法无效
| 申请号： | 02150449.0 | 申请日： | 2002-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN1501151A | 公开（公告）日： | 2004-06-02 |
| 发明（设计）人： | 蔡耀铭 | 申请（专利权）人： | 统宝光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/136 | 分类号： | G02F1/136;G02F1/1343;H01L29/786;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 李晓舒;魏晓刚 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种改善接触孔图案化的方法，该方法中采用的液晶显示面板包含有一衬底，一导电层设于该衬底表面，以及一介电层设于该导电层表面。本发明首先于该介电层表面形成一光致抗蚀剂层，且该光致抗蚀剂层内包含有一孔洞通达至该介电层表面，接着进行一蚀刻工艺，沿着该孔洞去除部分的该介电层，以形成一通达至该导电层表面的接触孔，随后再进行一表面处理，于该接触孔底部的该导电层表面形成一保护层，以避免去除该光致抗蚀剂层时对下方的该导电层造成伤害。 | ||
| 搜索关键词： | 改善 接触 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种改善一液晶显示面板中接触孔图案化的方法，该液晶显示器面板包含有一衬底，一导电层设于该衬底表面，以及一介电层设于该导电层表面，该方法包含有下列步骤：于该介电层表面形成一光致抗蚀剂层，且该光致抗蚀剂层内包含有一孔洞通达至该介电层表面；进行一蚀刻工艺，沿着该孔洞去除部分的该介电层，以形成一通达至该导电层表面的接触孔；进行一表面处理，以于该接触孔底部的该导电层表面形成一保护层；以及去除该光致抗蚀剂层。
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