[发明专利]光学纯S－（－）－和R－（＋）－奥美拉唑制剂及制备方法有效
| 申请号： | 02151291.4 | 申请日： | 2002-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN1506364A | 公开（公告）日： | 2004-06-23 |
| 发明（设计）人： | 严益民;屠永锐;李晓强 | 申请（专利权）人： | 常州市第四制药厂有限公司 |
| 主分类号： | C07D401/06 | 分类号： | C07D401/06;A61K31/4439;A61P1/04;//;211:94;233:64) |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人： | 王巍 |
| 地址： | 21300*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属药物制剂技术领域。本发明提供了含高度光学纯S－(－)－和R－(+)－奥美拉唑制剂及制备方法。本发明在处方中加入合适的碱性物质，如氢氧化钠、氢氧化镁、磷酸钠、碳酸钠等以保持pH≥9条件；加入一定量的稳定剂，如亚硫酸钠、硫代硫酸钠等；通过特有的制备方法如采用惰性气体造粒、包衣、干燥等；使得制剂在加工和储运过程中保持外观性状和光学纯度相对稳定。本发明制备的各种制剂如片剂、胶囊、注射剂等更适合通过口服和非肠道给药而达到采用本活性成分治疗的目的。本发明工艺简单，产品稳定性好，成品率高；方法中使用的溶剂无毒性，适合工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 奥美拉唑 制剂 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种含光学纯S-(-)-和R-(+)-奥美拉唑制剂，其特征在于该制剂包括光学纯S-(-)-和R-(+)-奥美拉唑组成活性成分与药用辅料。
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